Ionenstromverfahren

Ionenstromverfahren,

 

technische Nutzung eines Teilchenstrahls aus positiv geladenen Atomrümpfen.

 

Da ein Ionenstrahl extrem fein gebündelt werden kann, lassen sich erheblich feinere Strukturen und kleinere Punkte erzielen als etwa mit einem Laserstrahl. Aus dieser Eigenschaft ergeben sich derzeit vor allem zwei Anwendungsmöglichkeiten, die auch schon genutzt werden:

 

- Die Chip-Herstellung mit Ionenstrahlen: Sie erzielt deutlich geringere Strukturbreiten als das herkömmliche Belichten mit Ultraviolett- oder Röntgenstrahlung.

 

- Das Schreiben von Daten auf optische Speichermedien mit einem Ionenstrahl: Dabei kann ein Medium mit den Abmessungen einer CD Speicherkapazitäten von ca. 165 GByte erreichen, also mehr als 200-mal so viel wie eine CD-ROM. Da die Datenpunkte sehr klein sind, können die Punkte enger aufeinander folgen und zugleich die Datenspirale erheblich enger geführt werden als bei einer herkömmlichen CD: Die Speicherschicht, in die der Ionenstrahl schreibt, besteht aus Materialien wie Silizium, Nickel oder Stahl. Ionenstrahlmedien werden bereits als Bildspeicher für Mikrofilme genutzt; in der EDV haben sie sich noch nicht durchgesetzt.